很多人都問是怎么處理的，那么下面我們來講講硅片在硅片研磨機前一道工(gong)序的處(chu)理方法。有以下(xia)幾種(zhong):

一、硅片預(yu)處理(li)：

（1）.硅片切割：根據所(suo)需大小(xiao)用玻璃(li)刀進行硅片切割。

 操作是需要在潔凈的環境(jing)中(zhong)，并帶一(yi)次性(xing)手套避免(mian)污染硅片。桌面上放(fang)(fang)一(yi)張干凈的稱量(liang)紙(zhi)，用鑷子夾硅片的邊緣，將硅片正(zheng)面朝(chao)上放(fang)(fang)在稱量(liang)紙(zhi)上， 然后再(zai)取一張(zhang)干凈的(de)(de)(de)(de)稱量紙(zhi)覆蓋(gai)在硅(gui)(gui)片(pian)(pian)的(de)(de)(de)(de)表面(mian)，留出硅(gui)(gui)片(pian)(pian)需要切割(ge)(ge)(ge)的(de)(de)(de)(de)部分，將切割(ge)(ge)(ge)專用的(de)(de)(de)(de)直(zhi)尺(chi)放于(yu)覆蓋(gai)硅(gui)(gui)片(pian)(pian)的(de)(de)(de)(de)紙(zhi)上壓住直(zhi)尺(chi)，不超過待切割(ge)(ge)(ge)的(de)(de)(de)(de)紙(zhi)面(mian)，以防直(zhi)尺(chi)污染硅(gui)(gui)片(pian)(pian)。切割(ge)(ge)(ge)時玻璃刀(dao)沿(yan)直(zhi)尺(chi)稍(shao)用力平行滑動，不至于(yu)蔣硅(gui)(gui)片(pian)(pian)劃開，而是(shi)在硅(gui)(gui)片(pian)(pian)表面(mian)形成一道(dao)清晰的(de)(de)(de)(de)劃痕。（避(bi)免(mian)手套與硅(gui)(gui)片(pian)(pian)表面(mian)直(zhi)接接觸）

大硅(gui)片切割(ge)可在硅(gui)片表(biao)面形成表(biao)格(ge)，用手沿著網格(ge)線輕輕掰動(dong)，可形成大小合適的硅(gui)片。

將(jiang)切割好的(de)硅片用鑷(nie)子小(xiao)心夾持(chi)，放(fang)在干凈(jing)的(de)塑料平皿內，正(zheng)面朝上，用封(feng)口膜封(feng)好，放(fang)在干凈(jing)處保存待用。

二、硅基(ji)(ji)片(pian)表面的羥(qian)基(ji)(ji)化處(chu)理

（2）將切(qie)割好的硅片(pian)置于干(gan)凈的羥化(hua)燒杯中（專用），正面朝(chao)上(shang)。

用去(qu)離(li)子水清洗3次，清洗時稍用力，使硅(gui)片(pian)能(neng)夠在燒杯(bei)中旋(xuan)轉(zhuan)起來(lai)，以(yi)減少(shao)硅(gui)片(pian)之間的摩擦碰(peng)撞；將水倒干(gan)凈后，用移液管（過氧(yang)化氫專用）網燒杯(bei)中加(jia)入5ml過(guo)氧化氫(qing)（H2O2）,再加入（濃硫酸(suan)專(zhuan)用）15ml濃硫酸(suan)（H2O24），在搖床(chuang)上緩慢或(huo)靜(jing)止30分鐘使之充分反應(ying)，可使表面羥(qian)基化(hua)。

然(ran)后再(zai)按以(yi)上的方(fang)法清洗， 燒杯口的(de)向下傾慢(man)慢(man)轉動燒杯，使(shi)燒壁上(shang)的(de)濃硫酸能洗去。清洗結束后，用大量的(de)水保存硅拋(pao)片，硅片的(de)正面朝上(shang)。

三(san)、的氨基化處理

（3）取出氨化燒杯，先(xian)用無水乙醇(chun)清(qing)洗2次，然后倒入20ml無(wu)水乙醇，將步驟（2）反應后獲得的羥基化硅(gui)片轉到氨化燒杯中，用無水乙醇(chun)清(qing)洗3次，清(qing)洗時同步驟（2）。清(qing)洗完后倒(dao)掉乙醇(chun)，加入3-氨基(ji)丙(bing)基(ji)三(san)一乙氨基(ji)硅烷（APTES）和無水乙醇(chun)的(de)混合液（1:15）或先(xian)加(jia)入無(wu)水乙(yi)醇，然(ran)后用移管加(jia)APTES,然后振搖(yao)2h。 結束后可以是硅片表面(mian)氨(an)基化。

四、硅基片(pian)的(de)甲基化(hua)處理

（4）倒掉(diao)上步反(fan)應液體(ti)，用無水乙醇清洗3次，清(qing)洗(xi)步驟同上。洗(xi)完后吧硅(gui)片移到羧基(ji)化(hua)燒杯(bei)中，燒杯(bei)中含琥珀酸(suan)酐的無水(shui)乙醇飽和溶液，搖(yao)床振搖(yao)3h以上，反應結束(shu)后可使硅片表面羧基(ji)化。然后用(yong)無(wu)水(shui)(shui)乙(yi)醇(chun)(chun)清(qing)洗，用(yong)大量無(wu)水(shui)(shui)乙(yi)醇(chun)(chun)中保存待用(yong)。注(zhu)意：保持(chi)各專用(yong)燒杯清(qing)潔，處理(li)過程中的硫酸要收集到廢液(ye)瓶中，做好標記。

五、硅(gui)基片的醛基化處理

（5）接上步驟(zou)（3），倒掉反應液體，用無(wu)水乙醇清洗3次，以除去氨基(ji)硅烷再用(yong)去離子水(shui)清洗3次(ci)，以除(chu)去無水乙醇(chun)，避免與醛基(ji)反應。然后再用PBS溶液(ye)清洗2次，形成(cheng)PBS環境，然后倒掉PBS溶液，將(jiang)硅片亮(liang)面朝上，加入PBS的混合液和戊(wu)二(er)醛（1:10）搖床振(zhen)動反應1h。反應(ying)結(jie)束后可使硅基片形(xing)成醛(quan)基化。倒掉反應(ying)液體，用大量PBS清洗(xi)3次，然(ran)后鍵醛基化的硅片保存于PBS溶液中，以(yi)待(dai)下一步使用(yong)。

硅(gui)(gui)片的(de)處(chu)理(li)方(fang)法有很多種，這里只是簡單了描述以(yi)上的(de)這幾種，這就是硅(gui)(gui)片在硅(gui)(gui)片在硅(gui)(gui)片研磨機前上一道(dao)工序的(de)其中的(de)五種處(chu)理(li)方(fang)法。