在研磨拋光工藝中有很超精密的研磨拋光工藝，下面小編簡單的介紹兩個拋光研磨工藝，分別是液面研磨拋光各水合拋光。

1.液面(mian)研(yan)磨(mo)拋(pao)光其原(yuan)理是(shi)：研(yan)拋(pao)時工件與(yu)拋(pao)光盤之間流體壓力會(hui)形成(cheng)間隙(xi)，利用其化學反(fan)應所(suo)具有的腐蝕(shi)性的液體運動來(lai)進行研(yan)拋(pao)，其研(yan)磨(mo)方法的特點就是(shi)：不用使用磨(mo)料，這同時也是(shi)一種化學腐蝕(shi)加(jia)工方法。如果其中的腐蝕(shi)液成(cheng)分是(shi)以(yi)甲醇(chun)、乙三醇(chun)與(yu)溴為主(zhu)的混合液，可(ke)以(yi)用來(lai)加(jia)工基片(pian)表面(mian)。

2.水合研磨拋光其原理是：兩個物體產生相對摩擦，在接觸區產生的高溫高壓使工件表面上的分子與原子呈現活性化，現利用過熱的水蒸汽分子與水作用其表面，從而在基面形成水合化層。利用工件臨界面上生成水合反應，工件表面借助過熱的水蒸汽將其表面的水合化層分離，去除，一般去除厚度量為零點幾個納米；從而獲得無劃痕，平滑光澤且無變形的潔凈面。其最大的特點是：不使用磨料和加工液，而使用的加工裝置與目前的陶瓷拋光機使用的相似，只是其加工裝置一般是用于噴液，而它則是水蒸汽裝置；水合研磨拋光一般都在水蒸汽環境中進行。適合加工一些光學元件的超精密加工。

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