現在的平面研磨機都是采用游離磨料 合適的(de)研(yan)磨(mo)(mo)加工(gong)機器和研(yan)磨(mo)(mo)工(gong)藝的(de)平面研(yan)磨(mo)(mo)，作為一種設備相(xiang)對(dui)簡(jian)單(dan)，又仍然可以得到很(hen)高的(de)形體(ti)(ti)精度和表面質量的(de)方法(fa)，依舊是(shi)超(chao)精密加工(gong)最(zui)有效的(de)手段之(zhi)一了。

那么超精密的(de)平面(mian)研磨加工技(ji)術(shu)是研磨技(ji)術(shu)中(zhong)的(de)一種，可(ke)以(yi)獲得極高的(de)零件表面(mian)質量，主(zhu)要(yao)是可(ke)以(yi)獲得極高的(de)面(mian)部(bu)精度 （平面度 平(ping)行度等(deng)）和無加工變質(zhi)層的表面。現代高(gao)科技產(chan)品的制(zhi)造(zao)，如單(dan)晶硅片 硬磁(ci)盤基(ji)片(pian) 壓電陶瓷(ci)換能器(qi)等均(jun)需要(yao)采用超精密平面研磨(mo)加工技(ji)術。

超精密平面研磨可以分(fen)為四(si)個基礎組(zu)成成分(fen)----研(yan)(yan)磨(mo)盤(pan) 研(yan)(yan)磨(mo)液 磨(mo)粒和工件。研(yan)(yan)磨(mo)盤(pan)是精密研(yan)(yan)磨(mo)加工中的磨(mo)具，其(qi)面型(xing)精度對被加工件的面型(xing)精度影響非常大，模具表(biao)面形(xing)貌(mao)能在(zai)一(yi)定程度上(shang)復制到工件面上(shang)。

拋光是利用柔性拋光工具和磨料顆粒或其他拋光介質對工件表面進行的修飾加工。拋光不能提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度，而是以得到光滑表面或者鏡面光澤為目的，所以通常是作為精密加工最后的一道工序。因為研磨和拋光的原理來說基本是一致，所以通常所有的加工設備也可以通用，故經常將研磨和拋光并提，稱之為研磨拋光技術。研磨拋光可以通過單盤單面研磨拋光或者雙面研磨拋光實現。雙面流離磨料研磨中工件在上下盤之間，研磨時上下表面被同時加工。單面拋光在對單面有平坦度的要求，背面形狀復雜不易夾持或單平面基準面及高平坦之鏡面加工要求時，或薄易碎而沒有變形的情形下特別適用。單面游離磨料研磨拋光加工因其適應面廣，仍然是應用最廣泛的加工形式之一。

超精度拋光最大的特點是它不改變工件的面部精度，只是改善了其表面粗糙度，超精密拋光可使工件的表面粗糙度達到納米級甚至次納米級，超精密研磨最大的特點就是獲得極高的面部精度，打一個比方，將精密平面研磨可以使工件的平面度達到十分之一甚至百分之一微米的水平。因此為使工件獲得高的面型精度，低的表面粗糙度。我們會將精密研磨技術和超精密拋光技術并提，于是稱之為超精密平面研磨拋光技術。取超精密研磨的高精度及超精密拋光的低表面粗糙度，從而加工出非常精密的零件。