在陶瓷拋光機拋光硅片后，硅片表面會產生一些污染主要以：微粗糙度，金屬污染和表面顆粒度以及有機沾污這些對器件性能有重大影響。以下簡單介紹一些清洗方法：

1.微(wei)粗(cu)(cu)糙(cao)度.以(yi)前(qian)一(yi)般常用(yong)RCV清(qing)(qing)(qing)洗技(ji)(ji)術清(qing)(qing)(qing)洗硅片，而在清(qing)(qing)(qing)洗過后硅片表面則(ze)會有較(jiao)為嚴(yan)重的(de)(de)粗(cu)(cu)糙(cao)化作用(yong)。對于硅片表面的(de)(de)微(wei)粗(cu)(cu)糙(cao)度主要是受(shou)到(dao)RCA清(qing)(qing)(qing)洗工藝和HF清(qing)(qing)(qing)洗的(de)(de)影響，我(wo)們可(ke)以(yi)采用(yong)降(jiang)低氨水含量和極度稀釋HF清(qing)(qing)(qing)洗技(ji)(ji)術，這樣可(ke)以(yi)保證硅片表面微(wei)粗(cu)(cu)糙(cao)度。

2.金屬污(wu)染(ran).它(ta)會破(po)壞薄氧化(hua)層的(de)(de)完整性，增加漏電流(liu)(liu)密(mi)度(du)、減少(shao)其(qi)壽命；活(huo)動離(li)子(zi)如鈉會在氧化(hua)層中引起移動電荷，影響器(qi)件的(de)(de)穩定性；重(zhong)金屬離(li)子(zi)會增加暗電流(liu)(liu)；快擴散離(li)子(zi)。如：銅、鎳，易沉積于硅片表面(mian)，形成(cheng)微結(jie)構缺(que)陷。當其(qi)污(wu)染(ran)嚴(yan)重(zhong)時，不會形成(cheng)霧狀缺(que)陷，這(zhe)(zhe)缺(que)陷會與氧化(hua)誘生成(cheng)層錯(cuo)和外延層錯(cuo)相關。這(zhe)(zhe)個適合(he)采用(yong)添加了表面(mian)活(huo)性劑的(de)(de)極度(du)希釋(shi)RCA來進(jin)行清洗，這(zhe)(zhe)樣能有效去(qu)除表面(mian)顆粒(li)，減少(shao)顆粒(li)沉淀，來達到極少(shao)表面(mian)顆粒(li)目的(de)(de)。

運用(yong)表面活性劑和HF的RCA改進(jin)工藝，能夠很好(hao)地控(kong)制拋光片表面的顆粒(li)度(du)和金(jin)屬污染，相(xiang)對而言效果顯著(zhu)。

本文出自：//shhtgl.com.cn/mpjishu/963.html