合(he)理(li)的(de)研(yan)(yan)(yan)磨(mo)(mo)(mo)(mo)軌(gui)跡能提(ti)高研(yan)(yan)(yan)磨(mo)(mo)(mo)(mo)精度(du)(du)。而研(yan)(yan)(yan)磨(mo)(mo)(mo)(mo)軌(gui)跡則是(shi)研(yan)(yan)(yan)磨(mo)(mo)(mo)(mo)時工(gong)(gong)件(jian)在研(yan)(yan)(yan)磨(mo)(mo)(mo)(mo)盤表面(mian)運動的(de)線路，這是(shi)研(yan)(yan)(yan)磨(mo)(mo)(mo)(mo)工(gong)(gong)藝(yi)優(you)劣的(de)重要(yao)因素。在對(dui)各項精度(du)(du)指標綜合(he)考慮應對(dui)研(yan)(yan)(yan)磨(mo)(mo)(mo)(mo)軌(gui)跡提(ti)出這幾點技術(shu)要(yao)求：

1.在(zai)研磨運動(dong)過程(cheng)中，工(gong)(gong)件(jian)盡可(ke)能的保持平行(xing)移動(dong)，即工(gong)(gong)件(jian)表(biao)面上(shang)任一條直線在(zai)運動(dong)時永(yong)遠保持平行(xing)，工(gong)(gong)件(jian)表(biao)面各點的運動(dong)軌跡和瞬時速(su)度相同，使工(gong)(gong)件(jian)表(biao)面受到均勻的切削；

2.工件運(yun)動遍及整個研(yan)(yan)磨(mo)盤(pan)表面，工件在研(yan)(yan)磨(mo)盤(pan)表面的(de)軌跡應均勻(yun)分布，能使多個工件在研(yan)(yan)磨(mo)過程中受到相同(tong)的(de)切(qie)削(xue)條件，同(tong)時也能保證研(yan)(yan)磨(mo)盤(pan)的(de)磨(mo)損均勻(yun)；

3.運動(dong)速(su)度(du)均(jun)勻，保(bao)證(zheng)運動(dong)平穩；研磨方(fang)向多變，使(shi)切(qie)削交錯縱(zong)橫，逐漸(jian)細化，并減少研磨劑在(zai)一個方(fang)向的(de)堆積而引起工件的(de)塌邊(bian)的(de)現象；

4.防(fang)止工(gong)件上切削條紋的重復，在提高工(gong)件表面(mian)(mian)光潔的同時也(ye)需要防(fang)止研磨(mo)盤受局部磨(mo)損而喪失平面(mian)(mian)性(xing)，軌跡應避(bi)免過(guo)早出(chu)現(xian)周期性(xing)重復現(xian)象；

5.對(dui)于(yu)長、寬比(bi)例較大(da)，且有一定高(gao)度(du)的工件，運動應主要沿(yan)長邊(bian)方(fang)向前(qian)進；

實際(ji)上在陶瓷(ci)研(yan)磨(mo)機研磨工(gong)藝上絕對理想的軌跡是(shi)不可能(neng)存在(zai)的，以上的技術條(tiao)件是(shi)綜合考慮全面情況所提出的，僅供參考。

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