專業從事各種高精密研磨設(she)備(bei)、拋光設(she)備(bei)及(ji)其配套產品(pin)和消耗材料的高新企(qi)業
在中拋(pao)光表面(mian)的形成(cheng)的過程較為(wei)復雜,一般(ban)分(fen)為(wei)三個(ge)階(jie)段：
1.第一階段主要(yao)是(shi)處(chu)理在拋(pao)光(guang)前(qian)預(yu)處(chu)理工(gong)序時所留下(xia)的(de)(de)一些表面(mian)(mian)細微(wei)突起(qi)(qi)部分，一般經(jing)過前(qian)面(mian)(mian)預(yu)處(chu)理所有實際突起(qi)(qi)的(de)(de)部分比較細微(wei)，拋(pao)光(guang)的(de)(de)面(mian)(mian)積就(jiu)相對就(jiu)小了很(hen)多，工(gong)件表面(mian)(mian)面(mian)(mian)積所受(shou)到(dao)拋(pao)光(guang)的(de)(de)作(zuo)用(yong)力較大，拋(pao)光(guang)表面(mian)(mian)形成比較快；2.第二是整(zheng)個(ge)表(biao)面(mian)(mian)(mian)要進行(xing)拋光(guang)，隨(sui)著(zhu)前面(mian)(mian)(mian)的(de)細微突(tu)起部(bu)分(fen)的(de)去除，工(gong)件實(shi)際的(de)拋光(guang)表(biao)面(mian)(mian)(mian)積會隨(sui)著(zhu)拋光(guang)加工(gong)有進行(xing)越(yue)來越(yue)大，因(yin)此工(gong)件表(biao)面(mian)(mian)(mian)上承受(shou)的(de)拋光(guang)壓力漸漸減(jian)小，這里拋光(guang)表(biao)面(mian)(mian)(mian)形成(cheng)的(de)賴床也逐漸減(jian)小；
3.主要是(shi)對工件表面凹陷(xian)或者(zhe)缺(que)陷(xian)的拋光(guang)，這個最后的工序相對比較麻煩的工作量也比較大，花(hua)費的時間比前面所花(hua)的時間要多一倍的時間來去除凹陷(xian)與(yu)缺(que)陷(xian)。而且想要獲得超(chao)光(guang)滑的拋光(guang)表面同時要兼顧加工效率高表面變形小，其中(zhong)拋光(guang)工藝的技術性要求也是(shi)非常高的。
本文出自：//shhtgl.com.cn/mpjishu/938.html
