專業從事(shi)各(ge)種高精(jing)密研磨設(she)備(bei)、拋光設(she)備(bei)及其(qi)配套產品和(he)消耗(hao)材料的高新企業
1.粗(cu)磨(mo) 粗(cu)磨(mo)是將粗(cu)糙(cao)的表面和不(bu)規則外形(xing)修正成形(xing)。
2. 細磨 經過粗磨后(hou)金屬表(biao)面尚(shang)有(you)很深(shen)的磨痕,需要在細磨中消(xiao)除(chu),為拋光做(zuo)準(zhun)備。
拋光(guang)工序是為(wei)了(le)獲得光(guang)亮似鏡的表(biao)面加工過(guo)程。多數采用拋光(guang)輪來反復磨光(guang)后(hou)的零件表(biao)面上(shang)極微小的不(bu)平,通用于(yu)鍍層(ceng)表(biao)面的(de)修飾。拋光是鍍(du)層表面或(huo)零件表面最(zui)后—道(dao)工序,其目的是要(yao)消除在磨(mo)(mo)光(guang)工序后還殘留在表(biao)(biao)面(mian)上的細(xi)微磨(mo)(mo)痕(hen)。理想的拋光(guang)面(mian)應(ying)該是平整、光(guang)亮、無痕(hen)、天浮雕、無坑、無金屬(shu)擾亂層的似鏡面(mian)狀態的表(biao)(biao)面(mian)。
經過磨光(guang)與(yu)拋光(guang)后的(de)磨面變化。
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