陶瓷拋光機在研磨平面時，一般來說想要獲得高質量的平面拋光，所有的工藝規律都有以下這些點：

1、研磨(mo)運動軌(gui)跡應分布均勻而(er)不(bu)重復，相對來(lai)說一般由研磨(mo)的行星運動來(lai)保(bao)證(zheng)；

2、研磨(mo)盤(pan)要求材質均勻，并(bing)有微(wei)細孔容納微(wei)粉磨(mo)料，經過修整后可獲得(de)平面度非常高(gao)和研磨(mo)表面;

3、采用(yong)硬(ying)度不(bu)高的軟質(zhi)或半軟質(zhi)的研磨盤，更容易獲得(de)粗糙度低(di)和變(bian)質(zhi)層小的表面。相(xiang)反使用(yong)金(jin)剛石超(chao)硬(ying)的磨料研磨和拋光其(qi)效率更高;

4、加工工件對研磨平面要求很(hen)高時可以采用浮(fu)動研磨盤來消除其(qi)誤差;

5、想要提高研(yan)磨效率，可以在磨料中加(jia)入化(hua)學活性(xing)物質;

6、在研(yan)(yan)磨工作時(shi)應該在室內環境清潔狀態中進行，為避免(mian)粗磨料、空氣中灰塵等(deng)混入，使(shi)研(yan)(yan)磨表面劃傷(shang)從(cong)而達(da)不到其高(gao)質量的要求。

本文出自：//shhtgl.com.cn/mpjishu/998.html